NPS300
Mikro- / Nano-Replikation von ihrer besten Seite.
Optimiert für die Erzeugung von Nanostrukturen, ist der Nano imPrinting Stepper NPS300 das erste jemals Werkzeug, das fähig ist, ausgerichtete Heißprägung und UV-NIL auf derselben Plattform zu verbinden. Der NPS300 ist fähig, Größen unter 20 nm mit einer Überdeckungsgenauigkeit von 250 nm zu drucken.
Der NPS300 zeigt bewährte Spitzentechnologie-Lösungen, die die wirtschaftlichen Anforderungen sowohl für FuE als auch Produktion erfüllen.
Seine flexible Architektur bietet eine hervorragende Reproduzierbarkeit des Prozesses und die einzigartige Fähigkeit, große Flächen in einem sequentiellen Schritt und Wiederholungsmodus auf Wafer bis 300 mm zu mustern.
Der NPS300 ist als manuell geladener oder ein vollautomatisches System mit Wafer-geladener Fähigkeit erhältlich.
Die wichtigsten Vorteile
- Werkzeug für Nano-Prägung-Lithographie kombiniert Heißprägung und UV-NIL auf Wafer bis 300 mm in einem Stepp & Repeat Modus
- Die Druckauflösung unter 20 nm und Überdeckungsgenauigkeit von 250 nm ansprechen viele Anwendungen: gemusterte Speichermedien, Optik, Bio, usw...
- Möglichkeit, inertes Gas für schnelles Drucken hinzuzufügen
- Hohe Genauigkeit und geringe Mengen der dosierten Flüssigkeit
- Automatische Stempel-Aufnahme für höhere Flexibilität und Stempel-Größe von 50 / 65 mm bis zu 100 mm erweiterbar
- Manuelle oder automatisierte Wafer-Ladung / -Entladung
- Luftlager-Technik und Granitstruktur gewährleisten langfristige Stabilität und Zuverlässigkeit
Prozessfähigkeiten
Die Schritt & Prägungsstempel Prägung Lithographie für Heißprägung oder UV-NIL ist ein innovatives Verfahren, das bei der VTT Technical Research Centre in Finnland nachgewiesen wurde.
- Heißprägung-Lithographie: Dieses Verfahren besteht darin, das Stempel-Muster in ein Thermoplast Prägungsmaterial durch Hitze- und Druck-Steuerung zu übertragen
- UV-NIL: das Verfahren Schritt & Härtung verwendet dosiertes Prägungsmaterial vor Ort und UV-Härtung. Diese innovative Technologie ist eine vielversprechende Lösung, um Standard UV-Lithographie Systeme zu ersetzen, wenn Auflösung unter 20 nm erforderlich ist.
Anwendungen
- Photonische Geräte
- Mikrooptische hochgenaue Arrays und Gitter
- CMOS-MEMS Integration
- OLED Displays mit Hochauflösung
- HDD mit hoher Dichte für mobilen Speicher
- Andere neuen Techniken
NIL Verfahrenstechnik
Produktionslösungen von Nanostrukturen mit geringen Kosten sind in Entwicklung, die die Antriebskräfte der Halbleiter-, MOEMS- und Optoelektronik-Technologie von morgen sein können. Insbesondere wurden Nano-Imprint-Lithographie (NIL) und ihre Variationen als eine kostengünstige Alternative zur hochauflösenden Elektronenstrahl-Lithographie entwickelt, um unterhalb 20 nm Größen zu drucken.
Prägung basiert sich auf dem Prinzip des mechanischen Pressens von dünner Polymerfolie mit einem Prägestempel mit dem Nanomuster in einem thermo-mechanischen oder UV-Härtung Prozess. Das gemusterte Polymer kann als ein Endgerät, z.B. Linse für Bildsensoren, Mikro-Chip für Strömungstechnik, biomedizinisches Array, usw. handeln. Es kann auch als hochauflösende Maske für Folgeschritte des Prozesses verwendet werden.
Prägung ist eine direkte Technologie der Lithographie. Es gibt drei grundlegenden Prozess-Schritten:
- Den Prägungsstempel mit dem Substrat ausrichten, das vorbeschichtet mit Prägungsmaterial wurde
-
Den Prägungsstempel in das Prägungsmaterial drücken, um das Muster zu übertragen,
das auf der Oberfläche der Prägungsstempels geschrieben ist - Den Prägungsstempel vom Prägungsmaterial trennen
Wir können drei Aufdrucken- oder Prägetechniken beschreiben: Heißprägung-Lithographie (HEL) mithilfe thermisches Plastikmaterials, UV-NIL mithilfe eines flüssigen Abdeckmittels, das dann mit UV-Licht nach dem Formen ausgehärtet wird, und Weiche Lithographie, die die Tinte, die zuvor auf einem weichen Stempel eingetragen ist, auf einem Substrat mithilfe eines Stanz-Verfahrens angewendet wird.