热压印光刻技术
热压印光刻技术（HEL）是一种纳米压印光刻（NIL）方法，它在压印过程中使用受控制的温度和压力。
它允许对尺寸小至几十或几百纳米的图案进行复制。
除非基板本身是一种热塑性材料，例如聚碳酸酯，否则就需要用旋涂机对其进行涂覆热压印材料（热塑性抗蚀剂或聚合物）。
热压印光刻工艺
印模对准基板。精度要求随应用情况不同而变化。对于某些单体或一级应用，不需要对准：粗略的预对准就足够了。
为了将印模图案转印到材料中，印模和基板被加热到抗蚀剂的玻璃化转变温度之上，从而将其软化，并使材料流入印模腔所需的力降到最低。
在图案被压印到材料上（图案转印）之后，基板和印模的温度重新又低于材料的玻璃化转变温度（Tg），印模与印刻材料层相分离，印刻材料层则保留了印模所转印的图案。
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印模与晶圆沿5个轴进行对准：XYT以及平行度
印模进行自调平
纳米压印光刻技术
纳米结构的低成本生产方案正在开发中，这可能是半导体、MOEMS与光电子技术未来发展的驱动力。特别是，纳米压印光刻技术（NIL）及其变体已发展成为一种具有成本效益的技术，它可以替代高分辨率电子束光刻技术来印刷小于20纳米的几何形状。
印刻的原理是采用热机械或是紫外线固化工艺，使用带有纳米图案的印模对聚合物薄膜进行机械按压。带有图案的聚合物可以作为最终设备，例如成像传感器的透镜、微流控芯片、生物医学阵列等。它也可以作为一种高分辨率掩模应用于随后的工艺步骤中。
印刻是一种简单的光刻技术。它有三个基本的工艺步骤：
- 将印模与已预涂印刻材料的基板进行对准
- 将印模压入印刻材料以转印印模表面上的图案
- 将印模从印刻材料中分离出来
我们可以描述三种印刻或压印技术：热压印光刻技术 (HEL)，其使用热塑性材料；紫外纳米压印技术（UV-NIL)，其使用液体抗蚀剂并在成型后用紫外光进行固化；以及软光刻技术，其使用冲压方法将预先在软印模上处理好的油墨转印到基板上。
纳米图案成形工艺库
纳米图案库包含了在纳米图案成形领域所使用的27种工艺、方法和参考资料。它旨在使研究人员和工程师能够根据新应用的特别要求来选择不同的工艺。
纳米图案成形工艺库
纳米图案库包含了在纳米图案成形领域所使用的27种工艺、方法和参考资料。它旨在使研究人员和工程师能够根据新应用的特别要求来选择不同的工艺。
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NaPANIL简介
NaPANIL是一个以NMP为优先课题的Framework 7大型项目，由欧洲提供资助，汇集了18个来自于工业、学术界以及私人机构的伙伴，以实现宏伟的目标。
点击这里了解更多有关欧洲NaPANIL项目的信息！
NIL文件
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NaPa "Library of Processes" |
January 2010 |
This FREE 152 pages book gives all directions needed to chose and apply an alternative nano-patterning technique: it is a must read for all! |
NaPANIL |
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UV nanoimprint lithography process optimization for electron device manufacturing on nanosized scale |
November 2008 |
Imprint specific process parameters like the residual layer thickness and the etch resistance of the UV polymers for the substrate etch process have to be optimized to introduce UV nanoimprint lithography (UV NIL) as a high-resolution, low-cost patterning technique... |
IISB |
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UV nanoimprint lithography process optimization for electron device manufacturing on nanosized scale |
September 2008 |
It's a poster |
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UV nanoimprinting lithography using nanostructured quartz molds with antisticking functionalization |
February 2008 |
In this paper, we report the results obtained by the application of the SET FC150 equipment for UV-NIL... |
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