UV-NIL
UV-NIL ist ein Nano-Imprint-Verfahren, das auf Material-Dosierung am Ort basiert wird und dann gesteuerte nachfolgende UV-Härtung und Druck verwendet. Je nach Anwendungsanforderungen kann der Photolack nach oder vor der Ausrichtung dosiert werden.
Es ermöglicht, Muster zu reproduzieren, deren Größen so klein wie einige Dutzende oder Hunderte von Nanometern sein können.
UV-NIL Verfahren
Der Prägungsstempel mit 3D-Muster im Nanobereich ist an das Substrat ausgerichtet. Die Anforderung zur Genauigkeit unterscheidet sich je nach der Anwendung. Für einige einzelnen Anwendungen oder Anwendungen der ersten Ebene gibt es keine Notwendigkeit für Ausrichtung: eine grobe Vorausrichtung kann ausreichend sein.
Der Prägungsstempel ist dann in das flüssige Abdeckmittel gedrückt, um das gewünschte Muster zu ermitteln. Material ist durch leichte UV-Strahlung ausgehärtet.
Der Prägungsstempel wird dann reibungslos getrennt und - falls zutreffend - zur nächsten Prägungsstelle gezogen.
UV-NIL Process
Ausrichtung Prägungsstempel-zu-Wafer ist entlang 5 Achsen ausgeführt: XYT und Parallelität
Prägungsmaterial ist dosiert. Das Abdeckmittel ist entweder im Voraus aufgebraucht oder auf das Substrat nach einem bestimmten Muster dosiert, das Blasenfreie Ebene nach der Prägung gewährleistet. Das Dosierungsmuster wirkt auf die Fließgeschwindigkeit des Abdeckmittels in die Hohlräume des Prägungsstempels aus.
Prägungsstempel ist ins Material gedrückt, um das Muster zu formen:
Selbst-Nivellierung des Prägungsstempels
Druck während der UV-Belichtung
Prägungsstempel ist aufgehoben und auf den nächsten Ort verschoben
Prägung wird am neuen Ort wiederholt
NIL Verfahrenstechnik
Produktionslösungen von Nanostrukturen mit geringen Kosten sind in Entwicklung, die die Antriebskräfte der Halbleiter-, MOEMS- und Optoelektronik-Technologie von morgen sein können. Insbesondere wurden Nano-Imprint-Lithographie (NIL) und ihre Variationen als eine kostengünstige Alternative zur hochauflösenden Elektronenstrahl-Lithographie entwickelt, um unterhalb 20 nm Größen zu drucken.
Prägung basiert sich auf dem Prinzip des mechanischen Pressens von dünner Polymerfolie mit einem Prägestempel mit dem Nanomuster in einem thermo-mechanischen oder UV-Härtung Prozess. Das gemusterte Polymer kann als ein Endgerät, z.B. Linse für Bildsensoren, Mikro-Chip für Strömungstechnik, biomedizinisches Array, usw. handeln. Es kann auch als hochauflösende Maske für Folgeschritte des Prozesses verwendet werden.
Prägung ist eine direkte Technologie der Lithographie. Es gibt drei grundlegenden Prozess-Schritten:
- Den Prägungsstempel mit dem Substrat ausrichten, das vorbeschichtet mit Prägungsmaterial wurde
-
Den Prägungsstempel in das Prägungsmaterial drücken, um das Muster zu übertragen,
das auf der Oberfläche der Prägungsstempels geschrieben ist - Den Prägungsstempel vom Prägungsmaterial trennen
Wir können drei Aufdrucken- oder Prägetechniken beschreiben: Heißprägung-Lithographie (HEL) mithilfe thermisches Plastikmaterials, UV-NIL mithilfe eines flüssigen Abdeckmittels, das dann mit UV-Licht nach dem Formen ausgehärtet wird, und Weiche Lithographie, die die Tinte, die zuvor auf einem weichen Stempel eingetragen ist, auf einem Substrat mithilfe eines Stanz-Verfahrens angewendet wird.
NaPa Bibliothek der Verfahren
Die Bibliothek NaPa ist eine Sammlung von 27 Verfahren, Rezepten, Referenzen, die im Bereich der Nanomuster durchgeführt werden. Ihr Ziel ist es, den Forschern und Ingenieuren zu ermöglichen, von verschiedenen Prozessen je nach den spezifischen Herausforderungen einer neuen Anwendung auszuwählen.
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Über NaPANIL
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Dokumente von NIL
TITLE |
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ABSTRACT |
FROM |
NaPa "Library of Processes" |
January 2010 |
This FREE 152 pages book gives all directions needed to chose and apply an alternative nano-patterning technique: it is a must read for all! |
NaPANIL |
UV nanoimprint lithography process optimization for electron device manufacturing on nanosized scale |
November 2008 |
Imprint specific process parameters like the residual layer thickness and the etch resistance of the UV polymers for the substrate etch process have to be optimized to introduce UV nanoimprint lithography (UV NIL) as a high-resolution, low-cost patterning technique... |
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UV nanoimprint lithography process optimization for electron device manufacturing on nanosized scale |
September 2008 |
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